1、为什么光谱仪激发样品时需要高纯气保护?
(1)气的电离电位较低,易于形成等离子区;
(2)气为惰性气体,不会与样品金属蒸气反应;
(3)气能够传输真空紫外光谱(并非真空下的光谱,而是波长在10-200nm之间的光谱),如c、p、s等,不会影响紫外及真空紫外区域元素的测定;
(4)气为原子状态气体,谱线简单,不宜形成谱线干扰;
(5)气的背景辐射低;
气不纯:当气中含有氧和水蒸汽时,使激发斑点变坏。如果气管道与电极架有污染物排不出去,或有泄漏时,直读光谱仪,分析结果变差。
试样要求表面平整,当试样放在电极架上时,不能有漏气现象。如有漏气,激发试样的声音不正常,激发斑点变白。
分析样品与控制标样的车纹粗细要一致,不可有交叉纹,车样用力不要过大,而且用力要均匀,一定要坚持后一刀是自动刀,后一刀不要太厚,太厚会使样品温度过高,分析结果会不准确。
目前常用的光源有以下两种:一类是---光源包括电弧及火花光源,其中以高压控波光源、低压火花高速光源和高能预火花光源在冶金分析中得到广泛应用,一类是等离子体光源居多,在不同领域中得到普遍采用。
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